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一种大尺寸光学陀螺楔形腔及其制备方法和应用.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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一种大尺寸光学陀螺楔形腔及其制备方法和应用.pdf

    本发明提供了一种大尺寸光学陀螺楔形腔及其制备方法和应用，其制备方法包括：依次在Si晶元表面构建SiO2氧化层和掩膜层；采用接触式紫外曝光的方式对所述掩膜层进行光刻曝光处理，清除掩膜层中的多余部分；对所述SiO2氧化层进行BOE腐蚀，在掩膜层内侧形成SiO2楔形腔，随后清除附着在所述SiO2楔形腔表面的掩膜层；采用XeF2气体对所述Si晶元表面进行刻蚀处理，在所述SiO2楔形腔内侧形成Si楔形腔。本发明解决了Si基材料中难以加工成型大尺寸的楔形腔的问题，可在Si基晶圆上实现特定倾角且表面平坦的楔形

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112758886 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 202011625676.1 (22)申请日 2020.12.31 (71)

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