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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明涉及一种半导体系统及半导体工艺方法;包括:信号采集模块,用于采集半导体机台的状况;清洗处理模块,用于在半导体机台处于需要进行清洗处理的状况时自动对半导体机台的工艺腔室进行清洗处理;机况自动切换模块,用于在清洗处理后且符合机况切换条件时将半导体机台的状况自动切换至测机状况。上述半导体系统中在半导体机台处于需要清洗处理的状况时可以自动对半导体机台的工艺腔室进行清洗处理,且在清洗处理结束后将半导体机台的状况自动切换至测机状况,整个过程完全自动化,大大降低了人力和时间,避免了误操作的隐患,提高了机
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112802773 B
(45)授权公告日 2022.03.04
(21)申请号 201911106424.5 (56)对比文件
(22)申请日 2019.11.13
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