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一种氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备方法,它涉及一种高反射防激光膜层的制备方法。本发明要解决现有氮化硅材料对于激光吸收率较高,会产生大量的热量,造成结构破坏的问题。制备方法:一、氮化硅陶瓷表面预处理;二、氧化钛纳米浆料的配制;三、氧化钛涂层的制作。本发明用于氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112811937 B
(45)授权公告日 2022.07.08
(21)申请号 202011628204.1 CN 102282219 A,2011.12.14
(22)
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