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本发明提供一种双层O‑ALD原子层沉积设备,涉及O‑ALD领域。该双层O‑ALD原子层沉积设备,包括支撑固定底座,所述支撑固定底座的上端安装有一号工作机箱,所述一号工作机箱与支撑固定底座对称的一端安装有二号工作机箱,所述二号工作机箱的一端安装有一组防护隔离盖板,所述支撑固定底座的前端安装有四组真空泵,每组真空泵的下端均安装有若干组支撑移动滚轮,每组真空泵的一端均安装有排气口。该双层O‑ALD原子层沉积设备,设备能耗也有所减少(上下腔体同时工作时热量散逸相对两台独立的机器要少)。成本比两台独立的设
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112795906 A
(43)申请公布日 2021.05.14
(21)申请号 202110088883.6
(22)申请日 2021.01.22
(71)申请人 无锡琨圣智能装备股份有限公司
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