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一种可转移、复用性超薄光学超构表面的制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-07 发布于四川
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一种可转移、复用性超薄光学超构表面的制备方法.pdf

    本发明提供了一种可转移、复用性超薄光学超构表面的制备方法，包括：获取衬底，并利用第一生长技术在衬底表面生长牺牲层和微米级薄层；对微米级薄层进行外延，得到微米级薄层的外延结构；利用第二生长技术在外延结构的表面成长应力层，得到应力层‑微米级薄层‑牺牲层‑衬底的结构；腐蚀牺牲层，得到应力层‑微米级薄层‑衬底的结构；利用应力层产生的应力将微米级薄层与衬底分离，得到应力层‑微米级薄层结构和衬底；去除应力层，得到微米级薄层和衬底；对微米级薄层进行处理，得到超薄超构表面。本发明解决了现有技术中集成式超构表面有

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116219541 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202310198085.8 (22)申请日 2023.03.03 (71)申请人 北京工业大学 地址 100124

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