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- 2023-06-08 发布于四川
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本申请公开了一种晶圆清洗装置，该晶圆清洗装置包括基座；位于基座上的多个喷嘴，喷嘴包括相对设置的进液孔和出液孔；其中，每个喷嘴于出液孔位置设置有与出液孔连通的延伸部；形变结构，设置于延伸部的周围，形变结构用于支撑延伸部，并通过自身形变以调节延伸部的角度。通过基座上设置出液角度可调节的喷嘴，使得清洗液的冲洗角度和方向不完全依赖于基座的角度变化，基座上各喷嘴的出液角度可独立于基座进行调整，在基座水平移动时，清洗液不仅可以在竖直方向进行冲洗，还可与竖直方向具有一定角度的进行冲洗，可以更有效更彻底的实现对
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112845305 B
(45)授权公告日 2022.02.01
(21)申请号 202110001414.6 B08B 11/02 (2006.01)
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