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本发明提供在图案的转印时能够形成有利形状的抗蚀剂图案且显示出优异的转印性的光掩模、光掩模的制造方法、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法。光掩模在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案。上述转印用图案包含在上述透明基板上形成有相移膜的相移部、和上述透明基板露出的透光部。设上述相移膜具有的、对于g线的相移量(度)为对于h线的相移量(度)为对于i线的相移量(度)为时，则满足且这些中，最接近180度的值为
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112987484 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202110223505.4
(22)申请日 2016.06.15
(30)优先权数据
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