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半导体装置以及半导体装置的制造方法.pdfVIP

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  • 2023-06-17 发布于四川
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半导体装置以及半导体装置的制造方法.pdf

    提供一种晶体管特性的不均匀小的半导体装置。该半导体装置包括半导体膜、半导体膜上的一对遮蔽膜、位于半导体膜上且设置在一对遮蔽膜间的绝缘膜，其中半导体膜包括一对n型区域、设置在一对n型区域间的i型区域，n型区域与遮蔽膜重叠，i型区域与绝缘膜重叠。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113924657 A (43)申请公布日 2022.01.11 (21)申请号 202080041969.7 (71)申请人 株式会社半导体能源研究所

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