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基于卤素钙钛矿‑硼掺杂硅的异质结材料及光电位敏传感器的制备方法,本发明属于传感器领域,它为了解决现有光电位敏传感器的响应速度较慢,位置灵敏度不高的问题。本发明基于卤素钙钛矿‑硼掺杂硅的异质结材料具有p‑n结结构,在n型硼掺杂硅基片上采用激光脉冲沉积有厚度为150~250nm的p型卤素钙钛矿溴化物层,其中所述的p型卤素钙钛矿溴化物为CsSnBr3或CsPbBr3。将该异质结表面镀有金电极制备传感器。本发明基于卤素钙钛矿‑硼掺杂硅的异质结材料的传感器位置敏感度高,光电响应速度快,其位置灵敏度最大在4
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113380911 B
(45)授权公告日 2023.03.28
(21)申请号 202110644498.5 H01L 31/109 (2006.01)
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