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提供具有提高的可靠性的半导体存储器件。该半导体存储器件包括:模制结构,包括在第一基板上的多个栅电极和多个模制绝缘膜;沟道结构,穿透模制结构并与每个栅电极的相应水平面交叉;在模制结构中的多个第一绝缘图案,第一绝缘图案包括与模制绝缘膜的材料不同的材料;以及在第一绝缘图案中的第一贯穿通路,第一贯穿通路穿透第一基板和模制结构。栅电极包括第一字线和在第一字线上的第二字线。从第一字线到第一贯穿通路的第一距离不同于从第二字线到第一贯穿通路的第二距离。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113380811 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110213536.1
(22)申请日 2021.02.25
(30)优先权数据
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