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连续双样品室等离子体清洗装置 Continuous double sample chamber plasma cleaning device （征求意见稿） 在提交反馈意见时，请将您知道的相关专利连同支持性文件一并附上。 XXXX - XX - XX 发布 XXXX - XX - XX 实施 T/QGCML XXXX—2023 目 次 前言 II 1 范围 1 2 规范性引用文件 1 3 术语和定义 1 4 构成 1 5 技术要求 2 6 试验方法 3 7 检验规则 4 8 标志、包装、运输及贮存 4 I II T/QGCML XXXX—2023 连续双样品室等离子体清洗装置 1 范围 本文件规定了连续双样品室等离子体清洗装置的术语和定义、构成及原理、技术要求、试验方法、 检验规则、标志、包装、运输及贮存。 本文件适用于连续双样品室等离子体清洗装置的设计、制造和检验。 2 规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件， 仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本 文件。 GB/T 191 包装储运图示标志 GB/T 3767 声学 声压法测定噪声源生功率级和声能量级 反射面上方近似自由场的工程法 GB/T 4208 外壳防护等级（IP代码） GB/T 5095.7电子设备用机电元件 基本试验规程及测量方法 第7部分:机械操作试验和密封性试验 GB/T 5226.1 机械电气安全 机械电气设备 第1部分:通用技术条件 GB/T 13306 标牌 GB/T 15706 机械安全 设计通则 风险评估与风险减小 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 连续双样品室等离子体清洗装置 continuous double sample chamber plasma cleaning device 将多种待清洗工件放置在样品库的样品托上后，通过两侧送样装置和样品库升降装置的作用，方便 取送托盘至清洗位置，系统自动抽真空并充气，运动机构根据程序设置自动运行；启动设备后可实现自 动、单片、连续式清洗，有效提高清洗效率及清洗稳定性。 3.2 等离子清洗装置 plasma cleaner 等离子清洗装置也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，利用等离子体来达到常规清洗方法无 法达到的效果。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离 子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组 分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。 3.3 等离子体 plasma 等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。 4 构成 连续双样品室等离子体清洗装置的结构见图1所示，主要包括： 1 T/QGCML XXXX—2023 a) 等离子体清洗室； b) 送样装置； c) 样品库升降装置； d) 样品室； e) 多层样品托； f) 导电块； g)