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- 2023-06-28 发布于四川
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本发明涉及一种用于石墨抛光的化学抛光液及其制备方法和抛光处理方法。该化学抛光液由包括如下质量百分比的原料制备而成:有机碱0.5%~10%、无机碱0.5%~10%、腐蚀剂5%~30%、螯合剂1%~5%、有机溶剂1%~5%、水40%~92%;所述有机碱选自乙醇钠和/或胍;所述无机碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸氢钾、碳酸氢钠、碳酸钾和碳酸钠中的一种或几种。采用上述的化学抛光液对石墨进行抛光处理,能降低石墨表面粗糙度32%以上,且可均匀抛光,操作简便,具有广阔的应用前景。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113667409 B
(45)授权公告日 2022.06.17
(21)申请号 202010401283.6 审查员 秦珊
(22)申请日 2020.05.13
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