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本发明公开了一种具有面形修正能力的SIC反射镜表面改性工艺方法，解决了目前对碳化硅的整体加工效率低下，加工面形精度要求高的问题，其技术方案要点是通过在待改性工件与靶材之间放置一个具有孔径的遮挡板，根据测量得到的需要增加的面形量和单位淀积函数，计算改性膜层驻留时间分布，通过对工件的运动轨迹进行规划，进行工件表面改性层面形可控沉积，本发明的一种具有面形修正能力的SIC反射镜表面改性工艺方法，可实现局部可控沉积，有效减低改性前工件面形的精度要求，减少粗抛光加工时间，提高了整体加工效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113684461 A
(43)申请公布日 2021.11.23
(21)申请号 202110936830.5
(22)申请日 2021.08.16
(71)申请人 上海济物光电技术有限公司
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