低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法.pdfVIP

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2023-07-02 发布于四川
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低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法.pdf

本发明属于电阻电气元件技术领域，涉及一种低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法，能够改善大电流冲击后低梯度电阻片的稳定性。电阻片材料包括如下原料：ZnO：80.0～93.0wt.％，Bi2O3：2.0～6.0wt.％，Sb2O3：1.0～6.0wt.％，NiO：0～6.0wt.％，Cr2O3：0～2.0wt.％，Mn3O4：0.5～5.0wt.％，Co3O4：0.5～5.0wt.％，TiO2：0.1～0.5wt.％，含Ag和B的玻璃粉(银玻璃)：0.5～2.9wt.％。通过相应的制备方法

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113716952 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202111061132.1 (22)申请日 2021.09.10 (71

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