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一种改善薄片抛光波纹不良方法.pdfVIP

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  • 2023-07-06 发布于四川
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一种改善薄片抛光波纹不良方法.pdf

    本发明提供了一种改善薄片抛光波纹不良方法，括如下步骤；步骤一，在硅片的上表面涂蜡，且涂蜡量为0.7ml/枚；步骤二，采用吸盘将硅片进行吸取，吸盘的吸力控制在15mm/Hg以下；所述硅片的厚度为300um以下；步骤三，吸盘将硅片吸附到陶瓷板上进行贴附；步骤四，硅片进行抛光。本专利通过三个方向改善了硅片厚度为300um以下产品的抛光波纹不良的问题。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113829221 A (43)申请公布日 2021.12.24 (21)申请号 202111073911.3 (22)申请日 2021.09.14 (71)申请人 上海中欣晶圆半导体科技有限公司

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