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- 2023-07-06 发布于四川
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提供了一种衬底，该衬底在其表面上包括由给定形貌限定的图案化区域。该衬底将被加工以获得该衬底的切片形式的TEM样品。根据本发明的方法，通过在该衬底的与该图案化区域隔开的局部目标区域上沉积对比材料层来在该形貌上沉积对比材料的共形层。该材料是通过电子束诱导沉积(EBID)来沉积的。沉积参数，沉积在目标区域中的层的厚度以及所述目标区域到该图案化区域的距离，使得对比材料的共形层被形成在该图案化区域的形貌上。在此之后是保护层的沉积，这不破坏图案化区域中的形貌，因为该形貌受共形层保护。TEM样品以本领域内已知
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113820340 A
(43)申请公布日 2021.12.21
(21)申请号 202110659873.3 G01N 23/22 (2018.01)
(22)申请日 2
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