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2023-07-07 发布于四川
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本发明提供了一种激光退火设备，包括用于承载硅片的承载部；还包括激光发射部以发出激光；还包括反射激光探测部和透射激光探测部，以接收反射激光和透射激光并生成激光能量信息；还包括控制部，所述控制部通信连接所述透射激光探测部、所述反射激光探测部和所述激光发射部，所述控制部接收透射信息和反射信息，并根据所述透射信息和所述反射信息对所述激光发射部进行激光输出控制，实现同时分析入射激光、反射激光和透射激光的能量，获得加工对象对激光能量的吸收率，以判断激光退火的实际效果。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113838783 A (43)申请公布日 2021.12.24 (21)申请号 202111153643.6 (22)申请日 2021.09.29 (71)申请人上海集成电路研发中心有限公司

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