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形成变深度装置结构的方法.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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形成变深度装置结构的方法.pdf

    本案公开了一种用于形成装置结构的方法。形成装置结构的方法包括使用循环蚀刻处理技术在装置材料层中形成变深度结构。在变深度结构中形成多个装置结构以在其中限定垂直或倾斜的装置结构。使用蚀刻处理形成所述变深度结构以及垂直或倾斜的装置结构。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113874983 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202080037381.4 罗格 ·梅耶 ·蒂默曼 ·蒂杰森　 (22)申请日

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