真空蒸发镀膜法.pptVIP

1．瞬时蒸发法 * 第五十六页，共八十九页，2022年，8月28日 又称“闪烁”法。它是将细小的颗粒，逐次送到非常炽热的蒸发器或坩埚中，使一个一个的颗粒实现瞬间完全蒸发。如果颗粒尺寸很小，几乎能对任何成分进行同时蒸发，故瞬时蒸发法常用于合金中元素的蒸发速率相差很大的场合。 优点 ： 能获得成分均匀的薄膜，可以进行掺杂蒸发 等。 缺点： 是蒸发速率难于控制，且蒸发速率不能太快。 * 第五十七页，共八十九页，2022年，8月28日 2．多源蒸发法 * 第五十八页，共八十九页，2022年，8月28日 将要形成合金的每一个成分，分别装入各自的蒸发源中，然后独立地控制各个蒸发源的蒸发速率，使到达基板的各种原子与所需合金薄膜的组成相对应。为使薄膜厚度分布均匀，基板常需要进行转动。 二．化合物的蒸发 化合物的蒸发法有三种：（1）电阻加热法；（2）反应蒸发法；（3）双源或多源蒸发法—三温度法和分子束外延法。 反应蒸发法主要用于制备高熔点的绝缘介质薄膜，如氧化物、氮化硅和硅化物等。而三温度法和分子外延法主要用于制作单晶半导体化合物薄膜，特别是 III-V族化合物半导体薄膜、超晶格薄膜以及各种单晶外延薄膜等。 * 第五十九页，共八十九页，2022年，8月28日 1．反应蒸发法 将活性气体导入真空室，使活性气体的原子、分子和从蒸发源逸