一种真空镀膜设备.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约6.43千字
  • 约 6页
  • 2023-07-20 发布于四川
  • 举报
本实用新型公开了一种真空镀膜设备,包括真空腔、放卷机构、加热装置、冷却辊、阴极、收卷机构和低温泵,所述放卷机构、加热装置、冷却辊、阴极和收卷机构置于真空腔中,置于放卷机构中的基材依次通过加热装置和冷却辊后由收卷机构收回,在所述冷却辊外围设置有阴极;所述低温泵通过管路连通真空腔。本实用新型能够提高基材与镀层之间的粘结力,提高沉积效率,能够省去过渡层,降低成本。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214271037 U (45)授权公告日 2021.09.24 (21)申请号 202120127571.7 (22)申请日 2021.01.18 (73)专利权人 厦

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档