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高纯石英原料特征和资源开发现状 1、前言 石英是自然界中最常见的矿物之一，是一组由二氧化硅（SiO2）组成矿物的学名，广泛应用在玻璃、建筑、宝玉石装饰等传统行业。20世纪60年代以来，计算机、新材料、新能源等新兴技术对石英产品的纯度提出更高要求，诞生了高纯石英的概念。 2、高纯石英的概念 石英在自然界中分布非常广泛，但未经加工的天然石英难以达到高纯石英的质量要求。也就是说，高纯石英（highpurity quartz）是以天然石英矿为原料，经过比较复杂的提纯工艺加工获得的SiO2纯度极高的石英及其产品[1]。高纯石英是半导体、光伏、光纤、精密光学、照明设备、新型玻璃等产业不可缺少的重要功能材料。严格而言，高纯石英不是一种矿产，而是由水晶、脉石英、石英岩、花岗伟晶岩等矿石作为原料经提纯后的一种产品，因此，将能够提纯生产高纯石英的矿床称为高纯石英原料矿更为适宜[2,3]。由于不同产业需要不同质量的石英，使得高纯石英没有普适性的质量评价指标。不同的人有不同的定义。早期的研究认为，高纯石英的杂质含量应小于50×10-6，即SiO2纯度大于99.995%的石英为高纯石英。挪威地质调查局则提出更详细的指标，要求不仅杂质总质量要小于十万分之五，而且Al的含量应小于十万分之三，Ti的含量应小于十万分之一，Na和K的含量应小于百万分之八，Li、Ca的含量应小于百万分之五，Fe的含量应小于百万分之三，P的含量应小于百万分之二，B的含量应小于百万分之一。2014年，Flook根据市场产业需求，提出新的质量指标，认为SiO2纯度在99.95%、总杂质含量小于万分之五的石英即为高纯石英，纯度为99.5%~99.8%的石英可满足半导体填料、光纤、液晶屏生产行业的要求，纯度小于99.5%的石英可用在透明玻璃行业[3]。我国专家汪灵教授认为，关于高纯石英的概念，应同时具备纯度、粒度、物相三个特征[1]。 2.1 纯度特征 高纯石英产品的第一个特征，即最显著特征是它们的SiO2纯度高。汪灵[1]根据我国高纯石英产品生产及应用情况，按SiO2纯度将高纯石英产品划分为4个等级，即高端ω(SiO2)≥99.998%（4N8），中高端ω(SiO2)≥99.995%（4N5），中端ω(SiO2)≥99.99%（4N），低端ω(SiO2)≥99.9%（3N）；或以产品中Al、B、Li、Na、K、Ca、Mg、Ti、Fe、Mn、Cu、Cr、Ni等13种杂质元素总量进行划分，即高端≤20×10?6，中高端≤50×10?6，中端≤100×10?6，低端≤1000×10?6。 表1高纯石英产品分类与矿石原料品质要求2.2 粒度特征 高纯石英产品第二个重要特征是它们的粒度要求，即加工的产品是砂，是具有一定粒度的产品。粒度作为高纯石英一个重要指标，其粒度范围一般是40~150目，具体粒度应根据工业应用确定。如表2所示，采用真空气氛下电熔工艺制备石英玻璃，粒度要求40~80目；提拉法制备单晶硅的石英坩埚，粒度要求80~140目；以氢气与氧气为能源的气炼工艺制备石英玻璃，粒度要求100~200目。表2高纯石英砂产品主要粒度范围与工业应用特点2.3 物相特征 高纯石英产品第三个重要特征是它们的物相为晶相，即石英矿物晶体。图1是美国和挪威高纯石英砂的X-射线粉晶衍射分析（XRD）谱图，可以看出：它们都是结晶度非常高的石英单矿物晶体。其主要原因是，所有高纯石英原料均来源于天然石英矿。 图1　美国和挪威高纯石英砂的X-射线粉晶衍射分析（XRD）谱图3、高纯石英原料 地壳中SiO2主要以石英等矿物的形式存在，石英在地壳中分布是仅次于长石的矿物，占到地壳质量的12.6%。石英的成因多种多样，但其矿床工业类型有天然水晶、石英砂岩、石英岩、粉石英、脉石英、天然石英砂和花岗伟晶岩石英等7种。目前，能够用作高纯石英原料的矿床工业类型只有其中的天然水晶、脉石英和花岗伟晶岩石英等3种[4]。 3.1 天然水晶[1,4] 高纯石英最初是从一、二级天然水晶中深度提纯得到的。天然水晶是一种无色透明的石英结晶体矿物，主要成分为SiO2。天然水晶的自然生长环境多是在岩洞、岩石裂缝或节理、断层中，其生长条件比较苛刻，必须同时满足四个条件:充裕的生长空间，能够提供富含二氧化硅的热液，一定的温度和压力，足够生长时间。天然水晶制备高纯石英砂工艺较为简单，水晶原矿经过粉碎、磁选、浮选、酸浸、干燥、焙烧后得到成品石英砂。我国的天然水晶分布广泛，但矿床规模小、储量少。 3.2 脉石英 脉石英是一种几乎全部由致密石英块体组成的脉体，白色、乳白色，多呈粒状结构，SiO2含量通常在98%左右，是加工高纯石英砂理想的矿物原料之一[1]。脉石英常与水晶伴生，其形成与热液密切相关。根据已有的研究成果，脉石英是由岩浆作用或变质作用(或混合岩化)产生