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- 2023-07-31 发布于四川
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本实用新型提出了一种晶片清洗烘干设备,包括清洗槽、清洗机构和烘干机构;清洗槽内固定有多个用于放置晶片的清洗杯,清洗杯顶端设有晶片取放口且其底板上分布有多个出水孔,清洗杯内壁设有螺旋布置的清洗管,清洗管底端穿过清洗杯底板伸入清洗槽内,清洗管上分布有多个喷嘴;清洗机构包括多个供水管,多个供水管分别与多个清洗杯的清洗管底端可拆卸连接,供水管上设有供水泵;烘干机构包括环形管、多个供风管和引风管,多个供风管一端分别与多个清洗杯的清洗管底端可拆卸连接,供风管上设有风机,多个供风管另一端均与环形管连接,环形管
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209947800 U
(45)授权公告日
2020.01.14
(21)申请号 20192
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