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本实用新型涉及SLIPS材料制备领域,尤其涉及一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备。其中设备包括:滚筒,其具有空腔,在所述空腔内设置有磁性元件;输送机构用于将薄膜输送到滚筒;加热器,其设置于滚筒外侧;以及颗粒轰击装置,其设置于滚筒外侧,用于在磁场作用下,向所述滚筒上的薄膜以超音速喷射微纳米颗粒;其中,所述加热器和颗粒轰击装置沿所述薄膜的输送路径依次设置,所述磁性元件用于向所述颗粒轰击装置与所述滚筒外表面之间的区域提供磁场。本实用新型能在薄膜表面形成呈自然形态分布的微纳米多孔结构。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210026291 U
(45)授权公告日
2020.02.07
(21)申请号 20192
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