一种选择性硼掺杂结构及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-08-09 发布于四川
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一种选择性硼掺杂结构及其制备方法和应用.pdf

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本发明提供了一种选择性硼掺杂结构及其制备方法和应用，属于光伏技术领域。所述方法经过印刷、热处理和激光掺杂，形成的选择性硼掺杂结构以金属栅线与硅片接触区域为重掺杂区、受光区域为轻掺杂区，重掺杂区形成良好的欧姆接触并且改善填充因子，轻掺杂区可以改善短波的响应，且低表面浓度减少了少子的复合、提升了开路电压和短路电流。本发明的选择性硼掺杂结构的制备方法较现有工艺更简单，效果好，耗时短，易操作。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116565039 A (43)申请公布日 2023.08.08 (21)申请号 202310447030.6 (22)申请日 2023.04.24 (71)申请人常州时创能源股份有限公司地址