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一种电镀用铜离子补充装置.pdfVIP

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  • 2023-08-15 发布于四川
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一种电镀用铜离子补充装置.pdf

    本实用新型涉及一种电镀用铜离子补充装置，所述装置包括槽体、离心泵以及储液槽，所述槽体内包括若干独立的槽室，槽室底部设有多孔隔板，槽室底部与储液槽联通且二者之间设有流量调节阀，所述离心泵位于储液槽与槽体之间，离心泵的输出端连接有多个输送管路，每个输送管路对应于一个槽室，用于向槽室内输送电镀液，每个输送管路的输出端设有阀门。本实用新型通过对溶铜装置结构的改进，实现了对电镀液流量和溶铜量的精确控制，且整个补充过程离心泵持续进行工作，使电镀液的成分浓度保持平稳，具有良好的应用前景。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210104117 U (45)授权公告日 2020.02.21 (21)申请号 20192

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