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一种基于双层刻蚀曲线优化的超带宽多模弯曲波导.pdfVIP

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  • 2023-08-19 发布于四川
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一种基于双层刻蚀曲线优化的超带宽多模弯曲波导.pdf

    本发明提供了一种基于双层刻蚀曲线优化的超带宽多模弯曲波导，属于光子器件与集成技术领域，构建在绝缘体上的硅平台SOI上，由上至下包括包层，波导层和基底层，所述波导层设置为经浅刻蚀工艺形成的窄波导层和经深刻蚀工艺形成的宽波导层，窄波导层和宽波导层为宽度不同的曲线层，窄波导层和宽波导层形成四条内径和外径轮廓曲线，四条内径和外径轮廓曲线离散为多个弧线，通过窄波导层形成的内径轮廓曲线包括自由曲线C和自由曲线D，通过宽波导层形成的外径轮廓曲线包括自由曲线A和自由曲线B。本发明提出的多模弯曲波导具有器件尺寸小

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116609877 A (43)申请公布日 2023.08.18 (21)申请号 202310621648.X (22)申请日 2023.05.30 (71)申请人 燕山大学 地址 066004

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