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金属电沉积理论 _.研究概况 在电化学中,金属的电化学沉积学是一种最古老的学科。在电场的作用下，金属的电沉积发生在电极和电解质溶液的界面上，沉积过程含有相的形成现象。 首先，在金属的电化学沉积实验的研究时间要追溯到19世纪，并且在引进能产生直流电的电源以后，电镀很快成为一种重要的技术。电镀被用来制造各种不同的装饰性和功能性的产品，尽管在开场的早期，电镀技术的开展和应用建立是在经历的根底上。 金属电沉积的根本原理就是关于成核和结晶生长的问题。1878年，Gibbs在他的著名的不同体系的相平衡研究中，建立了成核和结晶生长的根本原理和概念。20世纪初,Volmer、Kossel、Stransko、Kaischew、Becker和Doring用统计学和分子运动模拟改良了根本原理和概念。按照这些早期的理论，成核步骤不仅要求一个新的三维晶体成核，而且完美单晶外表的层状二维生长。对于结晶理论的一个重要改良是由Avrrami提出的结晶动力学，他认为在成核和生长过程中有成核中心的重复碰撞和相互交迭。在1949年，Frank提出在低的过饱和状态下的一个单一晶面成长会呈螺旋状生长。Cabrera和Frank等考虑到在成长过程中吸附原子的外表外表扩散作用，完善了螺旋成核机理。 20世纪二三十年代，Max、Volmer等人对电化学结晶进展了更为广泛的根底研究。Erday-gruz和Volmer是第一次认识到