光伏硅片无磷清洗剂的配方设计与应用.pdfVIP

化 学 工 程 师 2023 年第2 期 Sum 329 No. 2 Chemical Engineer 2023 年第2 期 DOI ：10.16247/j.cnki.23-1171/tq 工 程 师 园 地 王成信 （上海喜赫精细化工有限公司，上海 201620 ） 摘 要：太阳能级硅片在金刚线切割和打磨过程中会受到严重沾污，需要采用物理或化学方法去除其表 面的污染物，以符合洁净度和表面状态的要求。为减少对硅片的过度腐蚀以及保持清洗工作液的持久性，通过 正交实验，确定了表面活性剂A 组分和碱剂B 组分的最佳配比。表面活性剂A 组分最佳配比为无磷乙二胺二 邻苯基乙酸钠∶PO 嵌段FMEE∶喜赫FMES∶伯烷基磺酸钠 PAS ∶烷基糖苷APG =7∶8∶3∶5∶3。碱剂B 组分最佳配