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纳米工艺下高质量时延测试方法研究的中期报告
本文提供了一份关于在纳米工艺下的高质量时延测试方法研究的中期报告。
近年来,由于纳米工艺的发展和复杂度的提高,需要更高质量的时延测试。对于处理器的设计和验证,时延测试是非常重要的。因此,在纳米工艺下高质量时延测试方法的研究对于保证处理器质量和可靠性是必不可少的。
本研究的目标是提出一种在纳米工艺下高质量时延测试方法。我们将在三个方面进行研究:测试方法、测试环境和测试参数的选择。
在测试方法方面,我们将使用基于极端值统计的方法,根据处理器时延数据的分布来确定测试时延的界限。同时我们将采用较高精度的时钟频率来进行测试,以降低测试误差。在测试环境方面,我们将选择封闭空间,并对测试环境进行统一的管理和把控。在测试参数的选择方面,我们将基于信噪比和测试误差等多方面的因素进行综合考虑。
目前我们已经完成了一些实验,能够验证上述方法的有效性。同时,在虚拟环境下,我们也成功的预测了处理器在纳米工艺下的时延分布状况。在接下来的研究中,我们将继续完善这些方法,以提高测试的精度和可靠性。
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