9.4TMRI超导磁体铁磁屏蔽优化设计研究的中期报告.docxVIP

9.4TMRI超导磁体铁磁屏蔽优化设计研究的中期报告 本研究旨在优化9.4 T MRI超导磁体的铁磁屏蔽设计，以提高其医疗成像性能和稳定性。本中期报告主要介绍了研究的背景、研究方法和初步结果。 背景： MRI技术是医学影像学中常用的一种技术，具有无辐射、非侵入性等优点，而超导磁体是MRI设备中最重要的组成部分之一。然而，磁体周围存在的铁磁材料会导致磁体失稳和成像失真，因此需要进行屏蔽优化设计。 方法： 本研究采用有限元分析软件COMSOL进行模拟分析，建立了9.4 T MRI超导磁体和其周围的铁磁屏蔽结构模型。通过对模型进行优化设计，比较不同设计方案的磁场分布和稳定性等指标。 初步结果： 经过初步的模拟分析，我们发现在加强磁体与屏蔽的支撑连接并增加屏蔽结构厚度的情况下，可以有效降低磁体周围铁磁体对磁场的影响。此外，我们还发现局部加厚屏蔽结构可以有效均衡磁场分布，减少成像失真。 下一步工作： 我们将进一步完善模型并进行更加详细的分析，优化磁体与屏蔽间的连接方式和屏蔽结构厚度、材料等参数。同时，我们将通过实验验证模拟结果，并进一步提高磁体的稳定性和医疗成像性能。