基板处理装置.pdfVIP

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根据一实施方式,提供一种基板处理装置,具备喷嘴、支撑部、处理液供给部、第1介质供给部及第2介质供给部。所述喷嘴以与基板的第1面相对的方式配置。所述支撑部配置于所述第1面与所述喷嘴之间,相对于所述喷嘴隔开预定的距离而支撑所述基板。所述处理液供给部向所述基板的与所述第1面相对的第2面供给处理液。所述第1介质供给部从设置于所述喷嘴的第1供给口向所述喷嘴与所述基板的第1面之间的空间供给第1介质。所述第2介质供给部从设置于所述喷嘴的比所述第1供给口靠周缘部处的第2供给口向所述空间供给温度比所述第1介质高的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111180357 A (43)申请公布日 2020.05.19 (21)申请号 20191

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