第五章有机合成中的官能团保护详解演示文稿.pptVIP

有机合成 第 5 章 有机合成中官能团的保护 第五章有机合成中的官能团保护详解演示文稿 当前第1页\共有30页\编于星期五\9点 （优选）第五章有机合成中的官能团保护 当前第2页\共有30页\编于星期五\9点 当前第3页\共有30页\编于星期五\9点 保护基应该满足以下要求 能有效地与被保护基团反应 （选择性好、反应条件温和、转化率高） 与被保护基形成的结构要能够经受住后续反应的条件，能够很好地将被保护基掩蔽起来 能有效地实现去保护 （选择性好、反应条件温和、转化率高） 当前第4页\共有30页\编于星期五\9点 5.1 羟基的保护 当前第5页\共有30页\编于星期五\9点 醚保护法 甲 基 醚 化 试 剂 一 般 有：MeI, (MeO)2SO2 或 MeOTf 与 相 应 的 碱 组 成 反 应 体 系， 但 也 有 用 CH2N2 /硅 胶 进 行 O-H 键 的 插 入 发 应。 甲 基 醚 非 常 惰 性， 除 去 也 相 当 不 容 易。 常 用 Me3SiI/CHCl3 or CH2Cl2 or MeCN 或 者 BBr3/CH2Cl2 等。 酚 用 甲 基 醚 保 护 较 多， 也 比 较 易 于 除 去。 1. 甲 基 醚 当前第6页\共有30页\编于星期五\9点 2. 苄 基 醚 苄 基 醚 的 应 用 很 广， 可 以 经 受 许 多 温 和 的 氧 化 反 应， 如 Swern, PCC, PDC, Dess-Martin periodinate, Jones, NaIO4, Pb(OAc)4 以 及 LiAlH4 还 原。 苄 基 醚 一 般 用 PhCH2Br 或 PhCH2Cl 与 烷 氧 基 负 离 子 反 应 所 得。 如 BnBr/NaH/cat. Bu4NI。苄 基 在 很 多 情 况 下 用 氢 解 的 方 式 除 去，10% Pd-C 是 最 常 用 的 催 化 剂 。 当前第7页\共有30页\编于星期五\9点 Journal of the American Chemical Society (1979), 101(1), 259-60. 当前第8页\共有30页\编于星期五\9点 3. 三 苯 甲 基 醚 三 苯 甲 基 醚 常 被 用 以 保 护 伯 醇， 一 般 用 TrCl/Py 在 DMAP 催 化 下 完 成 保 护。 它 的 除 去 基 本 都 用 酸 性 条 件， 如：HCOOH-H2O, HCOOH-t-BuOH, 0.1 M HCl/MeCN 等， 也 可 用 Na/NH3(l) 还 原 方 法。 当前第9页\共有30页\编于星期五\9点 硅 醚 保 护 基 主 要 有：Me3Si (TMS)、 Et3Si (TES)、 t-BuMe2Si (TBDMS or TBS)、 i-Pr3Si (TIPS)、 t-BuPh2Si (TBDPS) 等。 有 人 测 定 了 它 们 对 酸 碱 的 稳 定 性, 其 中 它 们 对 酸 水 解 的 相 对 稳 定 次 序 为： TMS (1) TES (64) TBDMS (20,000) TIPS (700,000) TBDPS (5,000,000)； 对 碱 的 相 对 稳 定 性 次 序 为：TMS (1) TES (10~100) TBDMS = TBDPS (20,000) TIPS (100,000)。硅醚键对有机锂、格氏试剂比较稳定。 4. 硅 醚 保 护 基 当前第10页\共有30页\编于星期五\9点 当前第11页\共有30页\编于星期五\9点 当前第12页\共有30页\编于星期五\9点 5. 四氢吡喃醚（THP 醚） 醇的四氢吡喃醚是一种缩醛，对强碱、亲核试剂、有机金属试剂、氧化剂、氢化物还原剂、催化氢化等都很稳定。有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩酮上的碳原子），使得NMR谱的解析较复杂。 当前第13页\共有30页\编于星期五\9点 二醇的保护 在多羟基化合物中，同时保护两个羟基往往很方便。保护基即可以是缩醛，缩酮，也可以是碳酸酯。 1. 缩醛或缩酮 在这种反应中，一般使用的羰基化合物是丙酮或苯甲醛，丙酮在酸催化下与顺式1,2－二醇反应，苯甲醛往往在氯化锌存在下与1,3－二醇反应。 缩醛和缩酮在中性和碱性条件下稳定，因此，假如反应可以碱性条件下进行，则它们在烷基化，酰基化，氧化和还原时用于保护二醇。二醇可用稀酸处理再生。苄叉基可用氢解方法除去。 当前第14页\共有30页\编