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- 2023-10-01 发布于四川
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本实用新型涉及一种半导体结构;基底,所述基底划分为若干个芯片区域;保护层,位于所述基底上,覆盖所述芯片区域;所述保护层覆盖所述芯片区域的区域内形成有若干个凹槽,所述凹槽的深度小于所述保护层的厚度。上述半导体结构通过在保护层覆盖芯片区域内形成若干个凹槽,可以增加保护层的表面粗糙程度及表面积,从而提高后段封装时保护层与塑封层的接着性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210575895 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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