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一种半导体化学气相沉积支架.pdfVIP

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  • 2023-10-01 发布于四川
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一种半导体化学气相沉积支架.pdf

    本实用新型公开了一种半导体化学气相沉积支架，包括底座以及底座顶部贴合的圆罩，所述底座四个侧边中心处均开设有限位滑槽，所述圆罩外侧壁贴合有推板，且推板下端面开设有限位块，且限位块与限位滑槽滑动连接，所述底座底部设有第一转盘以及第二转盘，所述第一转盘内腔开设有引导槽，所述第二转盘上开设有滑槽，所述限位块下端面螺纹旋合固定有限位螺柱，所述限位螺柱分别与引导槽以及滑槽滑动连接，所述第二转盘中心处通过轴承与第一转盘转动连接。本实用新型中，由于采用了中心限位结构，减少圆罩安装过程中偏移漏气问题，又由于采用了

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210575892 U (45)授权公告日 2020.05.19 (21)申请号 20192

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