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pr离子掺杂的laf3纳米微晶氟氧化物玻璃陶瓷的vuv光谱性质 0 pr3+掺杂量分析 氟氧化陶瓷玻璃具有低电子能耗。三价pr离子杂交的氟氧化陶瓷具有良好的光学和外观，可用于光放大、上下转换激光和三维显示。将这种玻璃陶瓷退火，含有Pr3+的LaF3析出，形成纳米微晶。纳米微晶中的离子具有和在单晶体材料中相似的发光性质。从1993年首次报道以来，氟氧化物玻璃陶瓷/氟化物纳米微晶中稀土离子的溶解度提高了，热稳定性和环境稳定性大大改善了。 激光选择激发的结果表明，样品中同时存在两种Pr3+中心，一种存在于LaF3纳米微晶中，一种存在于玻璃陶瓷中。玻璃中的Pr3+被选择激发到其4f 5d能级后的宽带紫外光发射及样品在可见光范围的吸收、激发和发射光谱都有报道。本文报道了Pr3+掺杂的LaF3纳米微晶/氟氧化物玻璃陶瓷在室温和20 K下的VUV光谱性质。以181 nm的光激发，同时观察到了玻璃中Pr3+来自4f 5d的宽谱带发射和微晶中Pr3+来自4f2 1S0的窄谱带特征发射。分别监测不同的发射，得到了两类Pr3+4f23H4→4f5d的激发光谱，从而对两种环境下Pr3+的4f 5d能级结构有了初步的了解。与体材料LaF3∶Pr3+单晶的VUV激发和发射光谱对照，分析了Pr3+掺杂在LaF3纳米微晶/氟氧化物玻璃陶瓷中被VUV激发后的发光过程。 1 pr的质量分数 氟氧化物玻璃陶瓷样品是由Corning公司提供的，样品的组分为SiO2-Al2O3-AlF3-NaNO3-LaF3-La2O3-Pr2O3,Pr的质量分数为1%。VUV光谱在中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室和中国科学技术大学国家同步辐射实验室测量获得，其中发射光谱由ARC-275型和ARC-308型单色仪测得；激发光谱由ARC-502型单色仪测得；日本Hamamatsu公司生产的H5920-01光子计数器和H7421-50光电倍增管被用于记录信号。激发光谱用水杨酸钠的激发光谱做了归一化处理。 2 结果与讨论 2.1 laf3pr3+光催化氧化原理 Pr3+被激发到4f 5d能级后的发射光谱由掺杂在基质中Pr3+最低的4f 5d能级和1S0能级的相对位置决定:4f 5d最低能级在1S0能级之上，Pr3+从4f 5d弛豫到1S0后，以f→f能级之间跃迁的窄谱带形式出现：1S0→1I6、1D2或1G4发射一个光子后，进行3P0→3HJ、3FJ或1D2→3H4的第二步跃迁再发射一个光子，这种现象称为量子剪裁(QS)；而4f 5d最低能级在1S0能级之下时，将产生宽谱带的d→f的UV(ultraviolet)光发射。 在Pr3+掺杂的LaF3纳米微晶/氟氧化物玻璃陶瓷中同时存在两种Pr3+，一种存在于LaF3纳米微晶中，一种存在于玻璃陶瓷中，如图1所示，纳米微晶中Pr3+的4f 5d最低能级在1S0能级之上，而在玻璃中Pr3+的4f 5d最低能级在4f2 1S0能级之下。当用高能量的光激发样品，使两种Pr3+均到达各自的4f 5d能级后，将同时出现d→f的宽谱带发射和→f的窄谱带发射。图2给出了用181 nm的真空紫外光激发样品，分别在室温和20 K两种不同的温度下观测到的发射光谱。在两发射光谱中都清楚观察到峰值在336 nm和397 nm附近的1S0→1D2、1S0→1I6的特征发射,对应的是微晶中Pr3+f→f能级间跃迁；同时可明显看到在330 nm左右有一宽谱带发射，对应的正是玻璃陶瓷中Pr3+的4f 5d→4f2 3HJ、3FJ的跃迁。单晶LaF3∶Pr3+在181 nm激发下的发射光谱如图3所示，图中同时标出各发射峰对应的跃迁。当晶体中的Pr3+离子被激发到4f 5d能级弛豫到1S0后,首先发生1S0→1D2(336 nm)或1S0→1I6(397 nm)的辐射跃迁，产生第一个光子；处于1I6激发态的离子经过无辐射过程到达3P0，发生3P0→3HJ、3FJ跃迁，也可能发生1D2直接到基态的跃迁，产生第二个光子。但是，对于Pr3+掺杂的LaF3纳米微晶/氟氧化物玻璃陶瓷，室温下发射光谱(图2(a))中未观察到来自纳米微晶中Pr3+的3P0→3H4窄谱带发射，而在20时(图2(b))却观察到这条谱线。导致这种现象的原因是：玻璃中Pr3+对纳米微晶中Pr3+发光的吸收，当温度降低时这种吸收减弱，使一部分发射仍能从样品中出来。 2.2 pr3+和4fcd结构分析 图4是在20 K时监测图2中宽谱带(4f 5d→4f2 3HJ)323 nm发射的激发光谱，对应于玻璃陶瓷中Pr3+从4f23H4到4f 5d组态的跃迁。通过这个光谱，可以对玻璃陶瓷中Pr3+的4f 5d能级结构也有了一个大致的了解。玻璃中Pr3+4f 5d组态最低的能级大约位于33 800 cm-1(295 nm)