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具有深台面结构的晶圆片的光刻方法.pdfVIP

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  • 2023-10-11 发布于四川
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具有深台面结构的晶圆片的光刻方法.pdf

    本公开提供一种具有深台面结构的晶圆片的光刻方法，包括：在具有深台面结构的晶圆片表面匀涂光刻胶；对匀涂过光刻胶的晶圆片进行预烘；对预烘的晶圆片依次进行完成第一次曝光、第一次显影、第二次曝光以及第二次显影，以减弱曝光时的边缘衍射效应；其中，第一次曝光和第二次曝光的剂量相同；刻蚀待刻蚀区域；去除光刻胶，完成光刻。本公开经过二次曝光，减弱曝光时的边缘衍射效应，解决晶圆片的深台面边缘处光刻胶较薄的问题；采用稀释后的显影液，抑制显影液的减薄效果，保障深台面边缘处光刻胶的保护性；在预烘过程中，采用先低温恒温减

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116859676 A (43)申请公布日 2023.10.10 (21)申请号 202310590000.0 (22)申请日 2023.05.24 (71)申请人 中国科学院半导体研究所 地址 1

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