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本发明涉及一种清洗后用于放置大直径石英管的装置及其控制方法，所属硅片加工技术领域，包括石英管、石英管清洗机构和石英管干燥放置机构，石英管干燥放置机构包括干燥放置柜，干燥放置柜下部设有支撑旋转托盘架，支撑旋转托盘架包括旋转托盘，旋转托盘上端设有若干呈环形分布的单管干燥架，旋转托盘上设有总氮气管。单管干燥架包括加热托盘，加热托盘上设有漏液孔，加热托盘上端设有与石英管相插接式支撑的顶柱，加热托盘下端与旋转托盘间设有插柱，加热托盘两端设有与石英管相弹性压接的限位组件。利用物理重力原理达到水渍流尽，从而无
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116857909 A
(43)申请公布日 2023.10.10
(21)申请号 202310750283.0
(22)申请日 2023.06.25
(71)申请人 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
地
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