平整与非平整基底表面磁性薄膜的物理特性研究的中期报告.docxVIP

平整与非平整基底表面磁性薄膜的物理特性研究的中期报告 中期报告 一、研究背景和意义 随着计算机、储存器等电子设备技术的不断发展，磁性薄膜材料在信息存储领域具有广泛的应用前景。其中，磁性薄膜的磁性性质是其重要的物理特性之一。而基底表面形貌对薄膜的磁性能的影响在磁性薄膜研究领域引起了广泛而深入的研究。 平整基底表面的磁性薄膜具有相对均匀和强磁性的特点，但是平整度较高的基底制备难度较大，成本高昂。而非平整基底表面制备的磁性薄膜，具有较强的表面形貌效应和形貌各向异性等特点，同时也存在一定的缺陷和异质性，因此其磁性能存在局限性。因此，研究平整和非平整基底表面的磁性薄膜的物理特性具有重要的意义，可以拓展磁性薄膜的应用领域和提高其性能。 二、研究目的和内容 本次研究旨在探究不同基底表面形貌对磁性薄膜磁性能的影响，具体内容如下： 1. 制备不同形貌基底上的磁性薄膜。采用溅射和电化学沉积等方法，制备平整和非平整基底表面上的磁性薄膜； 2. 分析磁性薄膜的磁性能。通过磁性测试仪、霍尔效应测试仪等仪器，测试不同形貌基底上磁性薄膜的磁性能特点； 3. 探究磁性薄膜磁性能与基底表面形貌的关系。通过分析实验结果，深入探究磁性薄膜的磁性能与基底表面形貌的关系。 三、研究方法和实验设计 1. 基底表面处理。采用机械抛光和化学蚀刻等方法，制备不同形貌的Si基底，其中包括平整、微凹、微球等处理后的基底表面。 2. 磁性薄膜制备。采用溅射和电化学沉积等方法，在不同形貌基底表面上制备磁性薄膜，并采用XRD、SEM等测试手段进行表征。 3. 磁性测试。使用磁性测试仪和霍尔效应测试仪分析磁性薄膜的磁性能特点，包括矫顽力、磁化强度、饱和磁化强度和霍尔电压等。 四、预期成果和进展情况 经过前期的实验设计和实验操作，我们已经成功制备了平整、微凹、微球等形貌的Si基底，并在其表面上制备了磁性薄膜。暂时测试结果表明，不同形貌基底上的磁性薄膜的磁性能特点存在差异，但是具体差异的分析目前仍处于初步阶段。 接下来，我们将进一步完善实验方案，深入分析和探究磁性薄膜磁性能与基底表面形貌的关系，为磁性薄膜研究领域的发展做出贡献。