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氧化铈抛光汇总及效果分析 随着光学技术和集成电路技术的迅猛发展，对光学元器件的精密和超精密抛光、集成 随着光学技术和集成电路技术的迅猛发展，对光学元器件的精密和超精密抛光、集成 电路的化学机械抛光技术的要求越来越高，甚至达到了极为苛刻的程度，尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。铈系稀土抛光粉（VK-Ce02）因具有切削能力强、抛光精度高、抛光质量好、使用寿命长等特点，在光学精密抛光领域已占有极其重要的地位。 一、氧化铈抛光粉的种类 氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉，其切削力和使用寿命也由低到高。 高铈抛光粉VK-Ce02，含氧化铈 95%以上，浅黄色，比重在7.3 左右，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。该抛光粉的性能优良，抛光效果好。 中铈抛光粉，含氧化铈 70%~85%之间，黄色或褐色，比重在 6.5 左右，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。 低铈系稀土抛光粉，含氧化铈40%~60%之间，适用于电视机显像管、眼镜片和平板玻璃 等的抛光。 二、氧化铈抛光粉的应用领域 氧化铈抛光粉VK-Ce02，主要用于玻璃制品的抛光，大的行业来说，主要应用于以下领域： 眼镜、玻璃镜片抛光； 光学镜头、光学玻璃、透镜等； 手机屏玻璃、手表面（表门）等； 液晶显示器各类液晶屏； 水钻、烫钻（发卡，牛仔裤上的钻石）、 灯饰球（大型大厅内的豪华吊灯）； 水晶工艺品