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本发明提供一种激光热模光刻工艺中提高光刻图形分辨率与均匀性的方法，所述发明利用激光热模光刻技术对硫系无机相变薄膜进行曝光前，通过对薄膜样品初始温度的精密调控提高曝光图形的分辨率，在曝光过程中使用红外温度传感器实时监控曝光区域温度并利用温度反馈系统对移动台温度精密调控以提高曝光图形均匀性。在曝光之前对样片进行温度调控使之保持在预设温度，曝光过程实时对温度进行精密调控使曝光区域温度稳定在波动范围内。与现有技术相比，本发明补偿了曝光过程中光热场调控精度的缺陷，提高刻写分辨率与均匀性，且更高的初始温度使
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116974149 A
(43)申请公布日 2023.10.31
(21)申请号 202310831987.0
(22)申请日 2023.07.07
(71)申请人 中国科学院上海光学精密机械研究
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