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扫描干涉光刻装置.pdfVIP

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  • 2023-11-01 发布于四川
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扫描干涉光刻装置.pdf

    本发明提供一种扫描干涉光刻装置，包括：用于发射激光的激光器；用于将激光分束为相干光的分束器；光纤，光纤的两个出射接口对称设置；用于调整两个出射接口的光束干涉角调整装置，两个出射接口均位于光束干涉角调整装置上；以及曝光基底；激光器发射的激光通过光纤进入分束器分别得到第一相干光和第二相干光，第一相干光和第二相干光分别从两个经光束干涉角调整装置调整的出射接口出射后在曝光基底上发生干涉形成用于光栅制造的干涉图样。本发明可以通过光束干涉角的控制实现不同栅线密度光栅的快速制造，规避了传统空间光方法中各元件繁

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116974148 A (43)申请公布日 2023.10.31 (21)申请号 202310604621.X (22)申请日 2023.05.26 (71)申请人 清华大学 地址 100084

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