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- 2023-11-04 发布于四川
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一种高土地利用率下挖式土墙日光温室，涉及蔬菜栽培技术领域，包括后墙，后墙的外部开设有位于地平面以下的第一栽培槽，后墙的外部中间位置还开设有与第一栽培槽并列设置的第二栽培槽，后墙的外部地面上设有与第一栽培槽相配合的第一操作走道，后墙上设有与第二栽培槽相配合的第二操作走道，后墙的内部开设有栽培副床，栽培副床的一侧下沉式设有栽培床。本发明解决了传统技术中的下挖式夯土结构墙体的日光温室，不能充分利用墙体产生的遮荫面，导致土地利用率低的问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116982500 A
(43)申请公布日 2023.11.03
(21)申请号 202311243107.4 E03B 3/02 (2006.01)
(22)申请日 2023.09.2
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