碲纳米带阵列及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-11-04 发布于四川
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本发明揭示了一种碲纳米带阵列及其制备方法,所述制备方法包括:S1、提供管式炉,所述管式炉包括第一温区和第二温区;S2、将碲源和云母衬底分别放置于第一温区和第二温区;S3、对管式炉进行抽真空;S4、对管式炉进行升温、保温及冷却,同时通入防氧化载气,将第一温区中的碲源输送至第二温区,并沉积于云母衬底上形成碲纳米带阵列,其中,所述第一温区的最高温度为350℃~450℃,第二温区的最高温度为330℃~390℃。本发明制备方法操作简单、原料安全、设备简易、成本较低,制备得到的碲纳米带阵列具有取向高度一致、

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115465843 A (43)申请公布日 2022.12.13 (21)申请号 202211236203.1 (22)申请日 2022.10.10 (71)申请人 中国科学院苏州纳米

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