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本发明提供一种束斑轨迹测量装置及方法。束斑轨迹测量装置包括:支撑平板,与所述支撑平板垂直固定连接的横板测试架以及至少两个竖板测试架;所述横板测试架与至少两个竖板测试架中的第一竖板测试架间隔设置,所述至少两个竖板测试架中的相邻两个竖板测试架间隔设置;其中,电子束在磁场的作用下,穿过至少两个竖板测试架中的第N个竖板测试架的竖板测试板后发生偏转,依次穿过N‑1个竖板测试板后,进入横板测试架的横板测试板及横板测试块,并在所述横板测试块上形成电子束斑点,根据所述电子束斑点在横板测试块上所在位置,确定电子的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117008182 A
(43)申请公布日 2023.11.07
(21)申请号 202310790604.X
(22)申请日 2023.06.30
(71)申请人 核工业理化工程研究院
地址 30
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