水处理系统简介及工艺要点.docx

水处理系统简介及工艺要点 摘要：本文通过分析总结近几年在工业超纯水工程中的设计、施工及现场生产实践经验，从工艺设计与施工的角度探讨超纯水系统的共性，并介绍系统中的关键设备、仪表、阀门、管材的相关知识，以达到从更高角度，更宽范围理解工业超纯水工艺原理的目的。??????? 关键词：纯水系统、工艺用水、纯水设备、半导体、电子、离子交换树脂、反渗透膜、水质??????? 概述??????? 不同行业对工业用水水质要求是不同的。在现有行业中，电子行业、制药行业及部分热力锅炉用水，其工艺要求必须使用不同级别的纯水供其生产运行。在设备制造等行业大力发展的今天，随着纯水需求的日益增大，工业用纯水的生产制备工艺也在逐渐的发展和成熟。??????? 本文主要对工业用水中的纯水和软化水的制备设计与施工进行相关叙述。??????? 一.水处理系统简介??????? 1.1应用概况??????? 当前，在半导体，生物医药，石油化工，航空航天，核能发电等相关产业，随着科学技术突飞猛进的发展，产品品质和生产工艺不断升级，对生产过程中的水质要求也越来越高，绝大多数场合都要使用超纯水。并且，纯水工艺发展到现在，也相当的成熟，单从电阻率这一综合指标而言，达到理论值18MΩ.cm已是很容易实现的了。??????? 近几年，我国在电子晶元与芯片制造行业投资比例日益增加，国内电子工厂日益增多，我们在玉器配套的纯水制备系统的设计与施工过程中，积累了丰富的施工经验。本文主要就是围绕工艺设计和施工要点来展开阐述。??????? 1.2工业用水处理的重要性??????? 工业用水，根据水质可分为纯水（除盐水、蒸馏水等），软化水（去除硬度的水），清水（天然水经混凝、澄清、过滤等处理后的水），原水（天然水），冷却水，生活用水等。现在的主流观念，通常将工业用水处理分为工业给水处理和废水处理。给水处理即将水质处理到能够满足不同工艺不同设备对水质的要求，以保证设备运行或产品良率。如果水质不达标，将会对产品或设备产生一系列的危害。??????? （1）、影响产品质量。电子行业冲洗用水颗粒超标，生产的集成电路质量则无法保证，直接导致良率下降。??????? （2）、影响设备运行及安全使用。如锅炉水质不合格，将导致炉管结垢、腐蚀，清理不及时易发生爆管等安全事故。??????? （3）、产品危及人体健康。如医药用水微生物或离子超标，将导致生产的药品变质。食品用水水质不合格，易导致产品腐败，危害健康。??????? 所以，现代工业对水质要求非常重视，它是保障产品质量、提高产能效率及安全生产的重要条件。??????? 附表系我国对不同指标的纯水水质要求。??????????????? 1.3主流纯水设计流程简介??????? 超纯水工艺在系统设计上通常分为三段：??????? 前段（预处理段）：一般由多介质过滤器和活性碳过滤器组成，如果当地水质硬度过高，需要在前段工艺中加上软化和脱碳装置。??????? 中间段（反渗透段）：这是整个纯水系统中非常重要的区段，起到承前启后的作用，在系统设计中，要充分考虑到反渗透膜的选型，膜组的分级分段和空间排列。一般而言，工业超纯水以两级两段设计居多。??????? 后段（抛光段）：这一段设计比较灵活，各个公司的设计都有所不同，一般设计中，紫外线装置，初级混床，抛光混床，超滤膜使用最多，但代表水处理最尖端科技的电去离子（EDI）装置，真空脱气装置（MDG）因具备独特的优点越来越受到青睐。??????? 从本质而言，纯水系统的水质主要是靠离子交换树脂、各种膜以及紫外线装置来保证的，它们在纯水工艺中发挥着最关键的作用。 ?????????????? 附图1 安徽省合肥市某电子厂纯水设计流程??????? 二.技术要点简析??????? 纯水制备包括三个阶段：前处理部分（Pre-Treatment)、制纯部分（Make-up System）和抛光部分（Polisher System）。??????? 前处理系统主要为砂滤、活性碳过滤器及2B3T(阳离子塔、脱气塔及阴离子交换塔)等设备，制纯系统主要为紫外线灯（UV）、板式换热器、保安过滤器、反渗透膜组（RO）、TOC-UV、混床（SA/SC）、膜脱气（MDG）等设备，抛光部分一般情况用在工艺末端，用来更进一步提高产水水质。??????? 2.1前处理部分（Pre-Treatment)??????? 现阶段电子厂一般选用的原水通常为较为干净的自来水，经砂滤及活性碳过滤后去除部分悬浮微粒及有机物，并去除自来水中余氯以确保树脂不被氧化损坏，再经由2B3T后将水中离子去除以避免RO膜管结垢以提升进水水质。??????? 2.1.1多介质过滤器（MMF）???????