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- 2023-11-18 发布于四川
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本公开提供了一种基板处理设备,以在单个装置中提供对基板的加热和等离子体处理,并且基板处理设备包括:处理容器,在其中容纳基板;支承构件,在处理容器中支承基板;等离子体提供单元,包括在处理容器内生成等离子体的电极;以及微波引入单元,连接到微波生成单元,并且向处理容器中引入微波。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117080040 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202310539862.0
(22)申请日 2023.05.15
(30)优先权数据
10-2022-0059708
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