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大气颗粒物外束pixe分析系统的建立及应用 0 pixe光照 对于离子激发的x-raceive（pixe），具有良好的流动性、快性、采样少、损伤少等特点。在离子束分析的领域，该方法具有许多独特的优势：第一，x射线光谱分析（xrf），pixe光源强度高，几乎是零，检测到的元素质量限制为10-16g。在气候分析领域，该方法有许多独特的优势：与x射线光谱分析（x-railigese，xrf）相比，pixe光源强度高，直度高，测量精度高。与内部分散分析相比，pixe对无法检测到的元素（如si和cu）的元素的敏感性非常高，该样品不会损坏。只有相同的样品才能使用其他方法。现在，美国环境管理局（uspa）认为，该方法是解决大气中元素定量分析的有效方法。 外束质子荧光分析(external beam proton induced X-ray emission)是指将质子由加速器真空管道引出后,在空气或He气中对样品进行表面元素定量分析的方法.该方法不受样品物态和形状等因素影响,对在真空中难以分析的易挥发液体、粉末和生物样品等可进行有效的分析,又可避免在真空靶室中的电荷积累效应,而且免除了样品室建立真空环境的步骤,提高了工作效率.北京师范大学串列加速器实验室建立了外束PIXE系统,并对外束PIXE分析方法进行了研究. 本文介绍了北京师范大学用于大气颗粒物分析的外束PIXE系统的建立,利用标准样品对该系统的刻度,以及使用该系统进行大气颗粒物样品外束PIXE分析重复性和探测限的相关研究. 1 设备和刻度 1.1 公园基质束产生的作用 实验室对北京师范大学GIC4117串列加速器的卢瑟福背散射(Rutherford backscattering spectrometry,RBS)靶室进行了修改用于外束PIXE实验(图1),为了限制质子束的直径,在靶室内部束流入口处安装了孔径3 mm的石墨光阑,为了保证束流的均匀性,在该石墨光阑的束流进入端粘贴了Al箔、流出端粘贴Mylar膜基底的Mo箔起散焦作用.外束引出管道由引出窗口和快速真空保护阀组成,引出窗口用7.5 μm厚的Kapton (C22H10O5N2) 膜密封,国内外有实验表明,如果用持续的质子束,Kapton膜可承受总数达1.6×1014个质子的轰击,样品总数可达数千个.如果实验中Kapton膜破裂,快速真空保护阀会在气压差作用下迅速关闭.实验使用的质子束能量为2.5 MeV,束流约为1~10 nA,最终轰击到样品上的质子束直径为6 mm.X射线用Si(Li)探测器测量,其对Mn的Kα线的能量分辨率(FWHM)为159 eV.为削弱空气对低能X射线的吸收作用并降低空气中Ar元素的峰面积,向Si(Li)探测器探头处以100 cm2·min-1体积流量通入He气.探测器Be窗与样品的距离为22 mm,探测器中心线与样品平面成45°(图2).实验中用空气中Ar元素的Kα峰面积来做束流积分的归一.为保证实验中样品的定位精度和提高分析效率,设计制作了样品靶架及自动控制系统.该自动控制系统由可平移的底座和可转动的靶盘组成,平移精度可达12.5 μm,转动精度可达45″. 1.2 u3000研究方法及设备 PIXE系统的刻度及改进若用PIXE手段进行元素面质量绝对计算,需精确测量样品元素特征X射线激发截面、探测器立体角及探测效率等物理量,难度大且误差也大,故一般采用相对法.相对法需要在确定的实验条件下,利用元素面质量已知的标准样品对PIXE分析系统进行刻度. 北京师范大学大气颗粒物PIXE定量分析采用加拿大Guelph大学开发的GUPIXWIN软件.刻度采用的标准样品是美国Micromatter公司生产的系列薄膜标准样品,选取的标准样品中各元素面质量见表1. 在对外束PIXE系统的第一次刻度中,对标准样品进行了8次测试,得到刻度因子的结果如图3所示: 实验结果表明,大多数元素的K系X射线对应刻度因子的重复性都较好,除X射线能量最低的Mg(1.254 keV)以外,相对标准偏差不超过5%.Mg元素刻度因子的相对标准偏差较大可能是因为: 1) 样品到探测器之间的距离过远,空气对X射线的吸收作用较强使得Mg的X射线计数较少; 2) 空气中Ar的峰过强,导致本底过强; 3) Mg的X射线能量低,易受电子学系统中低能噪声的影响;基于以上分析,对实验设备进行了改进: 1) 在探测器探头处加装了限制He气扩散的部件,以更好地保持外束引出窗口、样品和探测器之间的He气氛,以此来进一步降低空气层的等效厚度,削弱空气对X射线的吸收作用及空气中Ar峰的相对强度,并改善因空气流动造成的He气氛不稳定而引起的低能X射线吸收情况的变化; 2) 去掉了RBS靶室入口处石墨光阑一端的Al箔,只保留光阑另一端的Mo箔,这样会提高外束的束流密度