基于离子氮化技术在铝基体表面原位制备氮化铝层的研究.pdf

摘要 摘要 氮化铝(AIN)是一种综合性能优异的新型陶瓷材料，其具有高热导率(320 W／mK)、良好的耐腐蚀性、高电阻率、高硬度和耐磨性，在电子电力、机车、航 空航天、国防、军工、通讯以及众多工业领域都具有广阔的应用前景和广泛的潜 在市场。在铝基体表面形成的A1N层不仅能有效地提高其耐磨性能，而且能够 拓展铝在半导体等电子行业的应用。传统制备氮化铝层的方法有直流反应磁控 溅射法、化学气相沉积、等离子喷涂法、等离子浸没离子注入法等，这些方法形 成的氮化