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本申请提供了一种激光刻蚀装置,包括:真空腔室,激光器,以及与激光器电连接的控制组件;真空腔室,用于放置刻蚀对象,并为刻蚀对象提供真空环境;激光器,用于在控制组件的控制下,对真空腔室中的刻蚀对象进行激光刻蚀;其中,激光器位于刻蚀对象的重力方向一侧。将刻蚀对象置于真空环境中,并利用位于刻蚀对象下方的激光器对刻蚀对象进行刻蚀,一方面可以隔绝外界环境的影响,另一方面可以使得刻蚀过程中产生的微粒受重力影响下落,从而避免微粒飞溅并污染刻蚀对象,提升了刻蚀效果,增加了产品良率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117139856 A
(43)申请公布日 2023.12.01
(21)申请号 202311176379.7
(22)申请日 2023.09.12
(71)申请人 云谷(固安)科技有限公司
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