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x射线微分干涉相衬成像系统的设计与实验研究
1 .2.2相衬光栅相衬技术
x射线相位衬底成像技术的提出,克服了传统x射线吸收成像技术对弱吸收物质的印象不佳的缺点,并对软组织及其组成部分器官的疾病进行了诊断。x射线相位衬底成像技术主要包括四种方法:干预成像、辐射增强成像、基于传播的同步成像和微分干扰成像。前两种方法具有良好的信噪比,但在光源的时间和空间相位方面有很高的要求。所有研究工作都是在同步辐射源上进行的,因此x射线相位衬底成像技术无法进入普通实验室。后两种方法的实验研究也可以从同步辐射源中进行,但理论分析表明,它们对源的时间相位的要求可以降低。1996年,魏斯等人成功应用x射线源微焦矩阵光源进行了基于线性相位的相衬底成像。然而,由于x射线源很小,方程中规定了太高的空间分辨率,因此实际应用有限。使用x射线源前面的源光束,以便在普通实验室中执行x射线干扰相位衬底成像,以缓解光源强度与相干性之间的矛盾,促进相位图像技术向实际应用迈出重要一步。
然而,该系统采用了两个吸收光栅,一方面制作大面积吸收光栅工艺难度大,成本高,难以推广应用;更为重要的是尽管采用了高Z元素的重金属来制作吸收光栅,但由于其厚度有限,对比度不可能做得太高,尤其对更高光子能量的X射线而言,对比度较差将会严重影响所获得的相衬图像的质量.这一点已引起国外学者的注意,在2011年文献对此专门做了分析和研究.
本文报道了一种新的微分干涉相衬成像系统,系统中没有采用源光栅和吸收光栅,从而避免了上述缺点.本系统采用了线发射体阵列结构阳极X射线管和具有分析光栅功能的像素化X射线转换屏.结构阳极X射线管可直接提供微分干涉相衬成像所需要的高空间相干的X射线,具有分析光栅功能的像素化X射线转换屏可以完成吸收光栅和X射线转换屏的双重功能.利用上述器件构成的无吸收光栅的微分干涉相衬成像系统进行了系列实验研究,获取了生物样品的相衬图像.
2 线发射体结构优化设计
X射线相衬成像实验系统如图1所示.
成像系统由四个部分组成:基于线发射体阵列X射线管构成的X射线源、相位光栅和具有分析光栅功能的X射线转换屏探测器.由于阳极靶上的线发射体阵列结构,打在沟槽内的电子束激发产生的X射线会被侧壁靶材吸收掉,只有顶部斜面激发的X射线才能参与系统成像,所以该结构X射线管可以提供微分干涉相衬所需的空间相干的X射线源.
当通过相位光栅的X射线相位变化为π时,干涉条纹周期
单个线发射体光源上相距为w的两点所产生的自成像条纹移动距离为
当自成像条纹移动距离等于条纹周期一半时,该两点所产生的自成像条纹叠加结果可见度为0,此时
当单个线发射体光源的线宽为2w时,光源上的任意一点总能找到与之相距为w的另外一点叠加的自成像条纹可见度为0,要使得自成像条纹可见度不为0,光源线宽需满足
根据球面波照明时的分数泰伯效应,在相位光栅后面距离
处会产生相位光栅的像,其中为平面波照明时的一阶泰伯距离.为更大地提高X射线利用效率,通常取m=0,此时
把(6)式代入(4)式得
即单个线发射体光源线宽时,相位光栅自成像条纹对比度为0.为使自成像条纹有足够的对比度,例如90%以上,则需取
线发射体结构周期P0满足以下条件:
由(1),(6),(8)及(9)式得
即当阳极靶上线发射体阵列结构的占空比γ=b/P0=1/4时,各个线发射体对相位光栅所成的像满足非相干光强叠加的要求.从图1中结构阳极的几何投影关系可知,线发射体阵列结构在光轴方向的实际加工周期仅为P0/tanθ,该种结构设计可以有效提高对X射线的利用效率及使系统变得更加紧凑.相对基于吸收光栅成像而言,条纹对比度与X射线光子能量无关,而采用源光栅则会随X射线光子能量的提高而降低.
实验采用的相位光栅是硅基底材料的一维光栅,在进行成像实验时,要求相位光栅线方向与X射线源阳极靶上的线发射体方向平行.探测器采用具有分析光栅功能的X射线转换屏.转换屏与通常所用的分析光栅具有相同的周期结构,其周期的一半用硅制成,而周期的另一半是像素化的,每一个像素的孔洞里填满了能将X射线转换成可见光的荧光材料,如CsI(T1).这种结构的优点是,由于硅材料不能将X射线转换为可见光,因此对CCD可见光探测器而言,这种周期性结构不论转换屏多厚,相当于100%吸收效率的吸收光栅置于普通转换屏之前.因此,这种转换屏不受输入的X射线的光子能量限制.这种设计不仅使器件的制作难度降低了,更重要的是改善了图像质量,尤其对更硬的X射线相衬成像有利.
3 相位光栅转换屏和cdh-控制点成像像
放置样品前,把系统中的各个器件放置在具有五维调节功能的精密调节架上,利用事先搭建好的光学检验系统确定结构阳极光源、X射线转换屏与相位光栅之间的相对平行和位置关系.三者间的最佳位置关系通过CCD探测器是否能探测到清晰可见的莫尔条纹而定.待观察
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